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  产业资讯    
​微纳制造商苏大维格高性能光刻设备顺利交付、转让子公司100%股权
作者:cmh        来源:光电汇网 
日期:2023-07-13    阅读次数:141
副标题:

        据光电汇网,于2023年07月07日报道,微纳制造商苏大维格高性能光刻设备顺利交付、转让子公司100%股权。

       01 高性能光刻设备顺利交付

       07月4日,苏大维格官方宣布,其自主研发制造的大型直写光刻设备顺利交付,该设备主要用于光子芯片、光通信和光芯片等光电子领域相关材料的光刻制造,为客户搭建先进光电子器件制造的高端装备平台。


        苏大维格自主研发的大型直写光刻设备具备综合性能优势;

        3D矢量设计数据向微结构形貌转化先进算法与软件处理;

         海量数据处理与传输/快速光刻;

         大面积衬底实时三维导航自聚焦功能;

         三维微结构形貌曝光临近效应补偿;

         支持大面积光刻厚胶板制备


       能为各类新颖光电子材料与相关功能器件的生产制造和产业创新提供关键技术支撑和高端制造平台。

       目前苏大维格已签订了数个大型光刻设备合同,主要用于光子芯片、光芯片、光掩模、票据防伪、泛半导体等领域相关材料和器件的光刻加工制作,公司将根据相关协议陆续交付。

        苏大维格将持续拓展微纳光学技术/产品在国家票据和证件防伪材料、电子纸和反射式液晶前光材料、AR/MR 和AR-HUD衍射光学材料、芯片光刻机定位光栅尺材料,以及光刻设备在光伏铜电镀图形化设备、高端掩模、光子芯片、光芯片等具有更高附加值和市场空间领域的商业化应用和产业化投资,竭力为客户提供先进的光学材料、光刻设备和解决方案,满足客户对微纳光刻制造的更高需求,助力其突破技术瓶颈,为产业合作创造新机遇。

       此外,在光伏电镀铜图形化设备领域,苏大维格自行研发的高速低成本投影扫描光刻设备已顺利搭建完成,正在与下游客户做相关验证工作。


       02 转让华日升100%股权,不再开展反光材料业务

       早在6月19日,苏大维格发布公告称,公司及全资子公司盐城维格与江苏寰邦投资有限公司签署《附条件生效的股权转让协议》,拟向其转让华日升100%股权,转让价格为5.5亿元,以现金支付。本次交易完成后,公司及子公司将不再持有华日升股权,华日升及其全资子公司联名反光、通明安防、华路明将不再纳入公司合并报表范围。

        06月30日公司召开2022年年度股东大会,对该提议进行审议和投票。抓让华日升后,公司不会再开展反光材料业务,反光材料行业天花板比较明显,每年国内的市场规模在几十亿元左右。公司将集中各项资源,在更擅长的领域——例如布局微纳光学相关的设备材料方面。


       03 与延锋签署战略合作协议

       为了充分发挥苏大维格的微纳领域技术优势,苏大维格还与全球汽车零部件的重要供应商——延锋国际签署了战略合作协议,在智能座舱光学系统、汽车内外饰、座舱电子、智能交互等领域展开深度合作。苏大维格总裁朱志坚表示,有了延锋作为合作伙伴,就可以充分发挥苏大维格的微纳领域技术优势,进一步探索在汽车座舱领域的产品应用场景,并助力延锋将优势技术和产品推向全球客户市场。


        04 四大事业群“齐头并进”

        2022年度,苏大维格实现营业收入17.2亿元,较上年同期下降1.21%;营业利润-32,361.41万元,较上年同比增长14.14%;利润总额3.3亿元,较上年同比增长11.06%;归属于上市公司股东的净利润2.79亿元,比上年同期增长20.18%。年报指出,苏大维格2022年度营收同比基本持平,亏损幅度收窄。

       从布局业务来看,苏大维格现拥有公共安全和新型印材、消费电子新材料、反光材料、高端智能装备四大事业群。

       消费电子新材料事业群方面,在导光材料领域,子公司维旺科技经营导光材料市场多年。2022年,受显示面板及笔记本电脑登下游需求大幅下滑影响,维旺科技导光材料实现营业收入49,531.75万元,同比下降13.65%。面对下游面板等行业需求的周期性下滑,维旺科技积极改善产品结构,高附加值的高光效超薄导光板已顺利实现大规模量产。维旺科技凭借自主研发的高光效超薄导光板,可将液晶显示光效比提高10%-20%。

       在高端智能装备事业群方面,苏大维格光刻设备原销售对象主要为国内外高校及科研院所,近年来持续向企业拓展,并已实现了对半导体领域企业的销售。2022年年报显示,苏大维格光刻设备已实现向国内某芯片龙头企业的销售,并能提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部位定位光栅尺产品。

       此外,苏大维格也在积极拓展投影掩模式光刻机设备在太阳能光伏电池铜电镀方案图形化领域、以及直写光刻在芯片掩模板和IC载板等领域的应用。其自行开发的光伏铜电镀曝光设备采用了掩模投影曝光的方式,有利于协助下游厂商的降本增效。

       以上动作显示,苏大维格旨在集中各项资源,充分发挥苏大维格的技术优势,聚集微纳制造领域展开业务布局。


    
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