据中国光学期刊网，于2023年12月27日报道， 桌面化 EUV 光源的产生方法主要有两种，包括放电 产 生 的 等 离 子 体（DPP）和 激 光 产 生 的 等 离 子 体（LPP）法。其中，基于激光轰击锡液滴靶（LPP 型）产生 EUV 光源的方法排除了热累积效应，可显著提升光源的输出功率而成为光刻光源的首选方案，并实现了 EUV 光刻机的量产应用。

        锡液滴发生器是激光等离子体型极紫外（LPP-EUV）光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求锡液滴靶具备高重复频率、小直径且稳定性好的特性。 

        锡液滴靶的发生基于瑞利射流断裂原理，当有一静态压力作用于发生器内的液体时，只要压力大于小孔处液体的表面张力，发生器内的液体将从小孔喷射出射流。如果对射流施加一定频率的扰动，射流在表面张力和扰动的作用下，将会离散成尺寸一致、间距一定的液滴序列。通过激光轰击锡液滴，激光光子通过逆韧致辐射耦合到锡等离子体中，在其电子温度达到 26 eV 及以上时，以较高效率发射出 13. 5 nm 的 EUV 光子。

        实验结果及分析：

        实验室研制的锡液滴靶发生器，在 100 kHz 频率下，喷射的锡液滴直径为 40 μm，间距为 230 μm。

        锡液滴在 10 s 短时间内，竖直方向上的位置和间距的标准方差均<2. 4 μm，液滴在水平方向上位置的不稳定性 1 μm 左右，液滴直径的标准方差<2. 2 μm。锡液滴在 4. 5 h 的长时间稳定性的测试结果表明：液滴在整个时段中水平方向上的位置稳定性最好，最大标准方差为 2. 4 μm，最小方差为 0. 4 μm；竖直方向的位置，在中间阶段的最大方差为 2. 3 μm，最小方差为 1. 0 μm；在记录的初始和结束阶段偏大，尤其是结束阶段的不稳定性明显增加。液滴持续喷射时长接近 5 h。

        未来，实验室将进一步提升锡液滴的直径、位置稳定性、工作时间等性能，并发展相关的探测、分析和控制手段，以满足EUV光刻光源对液滴靶的工程需求。