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  技术动态    
高频科技超纯水赋能高良品率,助力半导体企业高速发展
作者:cmh        来源:半导体产业网 
日期:2024-03-24    阅读次数:123
副标题:

        据半导体产业网网,于2024年03月15日报道,在高科技产业中,芯片行业的发展无疑是最为引人注目的。作为现代科技的心脏,芯片的发展和创新对整个世界的科技进步起到了推动作用。然而,芯片制造过程中对水质的要求极高,而超纯水在这一领域扮演着至关重要的角色,直接影响着芯片制造过程中的成品率以及良品率,越是品质高的超纯水,对于良品率提升的助益也就越大。


        超纯水是芯片重要生产力

        超纯水,顾名思义,是指纯度极高的水,其杂质含量极低。在芯片过程中,超纯水被广泛应用于清洗、蚀刻、沉积、光刻等多个关键步骤。由于芯片制造过程中使用的光刻机、蚀刻机等设备对水质要求极高,微小的颗粒或杂质都可能导致芯片缺陷,影响其性能和寿命。因此,超纯水在芯片制造过程中的作用不可或缺。


        降本增效是芯片核心竞争力

        对于快速进步的半导体产业,提高生产效率和减少成本是促进其发展的核心要素。在此过程中,超纯水也是扮演了一个不可或缺的角色,它在保证芯片的质量与高效生产方面起到了基础性的作用。同时,高效的水资源管理策略也是企业实现低成本可持续发展的关键。

        制造电子级超纯水是一项要求极高的任务,它对企业的技术实力、工艺控制能力以及工程实践经验提出了严峻挑战。随着集成电路工艺的不断微缩,光刻步骤的增多,清洁步骤也相应增加,从而对超纯水的质量提出了更加苛刻的要求。这对超纯水供应商的生产技术提出了更高的要求。作为半导体产业链的关键环节,超纯水制备企业必须不断强化自身的技术实力和工艺能力。


        高频科技为行业提供原动力

        作为行业领先的本土超纯工艺技术企业,高频科技专注半导体高端制造业,经过不断地创新突破,已经掌握了先进半导体制程所需的超纯水全部核心工艺。特别是在ppb级别的TOC、溶解氧去除,以及ppt级别的硼、硅等特殊物质的去除方面优势显著。并凭借过硬的技术把控力和工程实践经验,针对有机物(TOC)、颗粒物、细菌、金属和阴离子等影响良率的主要杂质,已经实现领先于行业的技术成果,其产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ•厘米的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,不断满足半导体行业日益提升的用水需求,并以此塑造了强大的行业技术壁垒。

        针对半导体产业对大量水资源的需求和水资源利用率不高的现状,高频科技开发了电子级水循环使用技术。该技术使得水的回收率可以达到75%-90%,不仅有助于半导体企业减少用水量和能源消耗,同时也促进了微量元素的回收利用,提升了水资源的循环利用率,实现了生产成本的优化及生态与经济双重效益的提升。


    
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